曾获北京市科学技术奖一等奖,第电工单中国化学会青年化学奖,中国青年科技奖等奖励。
届全技术发展低维结构的结构电子学。国高(h)在175秒时间捕获的高分辨TEM图像。
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研究图被选为Adv.Mater.27卷23期的内封面页,准化被积极评价。【成果简介】近日,第电工单华中科技大学高义华教授与澳大利亚昆士兰大学邹进教授等人(共同通讯作者)通过透射电子显微镜的原位加热研究,第电工单在原子尺度上考察了InAs纳米线在催化剂/纳米线界面上从WZ结构转变到ZB结构的具体结构转变过程。
届全技术(b)在56秒时间捕获的高分辨TEM图像。
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